LCD制作從初期入料凈化到成膜前凈化以及光阻前凈化到和配向凈化到完工凈化，需要不少于二十次的凈化工程，更需要使用到各種凈化設備，目的是要將玻璃基板上的雜質以清洗劑凈化，由于這些凈化工程對于后續制程良率影響極大，因此LCD凈化設備在制程所扮演的角色也就顯得格外重要，未來發展情況愈來愈受重視。凈化設備分為兩種；一種是以卡匣為單位，將數個基板一起浸泡在凈化槽中進行凈化處理的群組式設備，以及將基板分片搬送，再用清洗液沖洗基板正反面來進行凈化工程的單片式設備。
在LCD玻璃基板的制程中有很多采用群組式凈化設備，主要是因為以卡匣為單位處理基板，生產量高，但因基板尺寸變大，設備的高度也會變高，加上清洗液循環使用以及卡匣和基板一起凈化的影響，會產生無法完全凈化等問題，因此群組式凈化設備在TFT制程上的應用有所限制.單片式凈化設備雖然也會隨著基板面積擴大而變大，但設備高度影響卻比較少。而且單片式凈化設備可以做到群組式凈化設備較難做到的單片基板凈化，以及可依清洗液不同進行深度凈化，所以成為LCD凈化設備的主流。
針對LCD玻璃基板大型化與低價化等要求，進一步的降低價格、節省空間、提升產量及提升維修性等為凈化設備的新課題。而且依凈化制程不同，最適當的單片式凈化設備的種類也有所不同，因此，未來需要開發各種凈化設備。目前已開發完成可凈化1公尺平方基板的水平單片式凈化設備，但客戶仍要求減少藥液使用量和提高凈化工具的處理效率等問題，因此未來工具開發與凈化設備效率的提升，都是相關設備研發改善的重要課題。
另外，可凈化到3.5代基板尺寸的旋轉單片式設備已開發完成，但是未來將面對的是1公尺平方玻璃基板的低溫多晶硅TFT制程，業者則期待能有可用在大型基板與LTPS制程的高度凈化設備。因此，除了刷毛類的物理凈化工具與背面處理工具外，新的旋轉式凈化設備與工具的開發動作也相當受關注。